控制仪系列
两路束流同时输出，实现对待镀膜材料进行预熔，大大缩短镀膜时间和确保镀膜质量。
双晶片自动切换。当晶片失效时，可保持原有镀膜内容，待晶片切换成功后，在原有基础上继续镀膜，以确保多层镀膜工艺连续性。
控制工作方式。采用人工按键，半自动和全自动三种。
采用双挡板控制。控制形式为脉冲和电平二种，以适用于不同类型挡板控制镀膜设备。
枪1坩埚转位输出为六路，枪2坩埚转位输出为五路，控制方式为编程、单个、独个、旋转四种，其中前三种为脉冲形式，旋转为电平形式。
控制输入为二个。分别为自动启动镀膜输入和自动停止镀膜输入，如与光学控制设备结合使用可满足复杂的镀膜工艺要求，精确控制膜层沉积速率和层的膜厚。做出高精度的光学薄膜。